賽默飛ICP-MS是獲得R可的痕量元素分析和定量的技術。其應用范圍從半導體工業到地質和環保分析、從生物研究到材料科學。本產品是元素信號的多原子干擾，這種干擾主要來自氬或樣品基質。高質量分辨率是識別和消除干擾的蕞佳標準。即使沒有樣品制備步驟，消除干涉也能準確可K地進行痕量級多元素定量分析。

工作條件：

ICP：主要包括ICP功率，載氣、輔助氣和冷卻氣流量。樣品提升量等，ICP功率一般為1KW左右，冷卻氣流量為15L/min，輔助氣流量和載氣流量約為1L/min，調節載氣流量會影響測量靈敏度。樣品提升量為1ml/min。

接口裝置：ICP產生的離子通過接口裝置進入質譜儀，接口裝置的主要參數是采樣S度，也即采樣錐孔與焰炬的距離，要調整兩個錐孔的距離和對中，同時要調整透鏡電壓，使離子有較好的聚焦。

質譜儀：主要是設置掃描的范圍。為了減少空氣中成分的干擾，一般要避免采集N2、O2、Ar等離子，進行定量分析時，質譜掃描要挑選沒有其它元素及氧化物干擾的質量。

同時還要有合適的倍增器電壓。

事實上，在每次分析之前，需要用多元素標準溶液對儀器整體性能進行測試，如果儀器靈敏度能達到預期水平，則儀器不再需要調整，如果靈敏度偏低，則需要調節載氣流量，錐孔位置和透鏡電壓等參數。

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