等離子體去膠機VP-RS8采用真空不銹鋼腔體等離子清洗裝置技術，真空腔體不銹鋼材質，容積8L，兩路工作氣體，中英文觸摸屏控制，等離子處理結束自動泄壓，功率500W，頻率13.56MHz，能對材料起到清潔、刻蝕、活化、改性的作用，滿功率運行3分鐘，腔體溫度不高于45℃，不損傷樣品，適用于晶圓去膠、芯片去膠、煤灰化、碳毯（CF）、微流控芯片PDMS鍵合、ITO導電玻璃、石墨烯、纖維、單晶硅片、PET、二氧化硅等幾乎所有材料的PLASMA處理。
VP-RS8等離子體去膠機對標國際一線廠 家，補充國內技術短板(真空不銹鋼腔體等離子清洗裝置編號: CN201821506143.X)，真空腔體不銹鋼材質，功率500W， VP- RS8頻率13.56MHz ，能對材料起到清潔、刻蝕、活化、改性的作用，滿功率運行3分鐘，腔體溫度不高于45"C,不損傷樣品，適用于晶圓去膠、芯片去膠、碳毯(CF)、微流控芯片PDMS鍵合、IT0導電玻璃、石墨烯、纖維、單晶硅片、PET、二氧化硅等幾乎所有材料的PLASMA處理。
內置兩路氣路，氣體流量可調，無需再搭配氣體混合儀
真空等離子處理儀控制軟件、操作簡易，智能化設計，避免誤操作
采用數字顯示壓力， 實時觀察腔體壓力變化情況
中英文操作系統， 觸摸屏控制，人機界面友好
清洗時長可在觸摸屏設置，等離子處理時間精確到秒(s)
PLASMA處理結束，自動泄壓，泄壓時長和大小可調，可通入氮氣泄壓
功率連續可調
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